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提升PVDF介电性能:片状氧化镁基填料的创新应用

作者:小编 浏览人数:  次更新时间:2024-09-20

提升PVDF介电性能:片状氧化镁基填料的创新应用

 

 

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在现代科技的快速发展中,对材料性能的要求越来越高。特别是在电子、电气和能源存储领域,高介电常数的材料对于提高设备性能至关重要。PVDF作为一种高性能工程塑料,因其优异的综合性能而被广泛使用。然而,纯PVDF的介电常数相对较低,这限制了它在高介电应用中的使用。为了克服这一挑战,研究人员探索了通过添加片状氧化镁基填料来提高PVDF的介电性能。

 

片状氧化镁基填料的特点

 

片状氧化镁基填料因其高比表面积、高介电常数和良好的化学稳定性而成为提升PVDF介电性能的理想选择。此外,氧化镁的环境友好性使其成为绿色材料应用的首选。

 

复合材料的制备方法

 

制备高性能的PVDF/MgO复合材料需要精确控制原料的混合和成型过程。通过高速搅拌机或双螺杆挤出机混合PVDF树脂和片状氧化镁填料,确保填料在树脂基体中均匀分散。随后,通过热压成型或注塑成型技术将混合物制成标准试样,并进行适当的后处理,如退火,以消除内应力。

 

介电性能测试

 

介电性能的评估包括介电常数、损耗因子和击穿强度的测试。这些测试在不同的频率和温度条件下进行,以全面了解复合材料的介电特性和温度稳定性。

 

实验结果与讨论

 

实验结果表明,添加片状氧化镁基填料可以显著提高PVDF复合材料的介电常数。当片状氧化镁基填料的质量分数为10%时,复合材料的介电常数从纯PVDF8.5提高到15.0。此外,复合材料的损耗因子保持在较低水平,表明其在高频应用中的潜力。

 

影响因素

 

填料含量、形态、分散性和界面相互作用是影响PVDF/MgO复合材料介电性能的关键因素。优化这些参数可以进一步提升复合材料的性能,满足特定应用的需求。